2026年4月24日至26日，由深圳市真空学会联合深圳大学举办的“核聚变与大科学装置领域真空技术创新发展论坛”在深圳大学粤海校区圆满落幕。作为新锋科技集团子公司及真空技术与薄膜沉积领域的新锐力量，湖南辰皓真空科技有限公司受邀出席本次盛会，全方位展示了公司在金刚石辐射探测器及高端真空装备领域的最新成果，吸引了众多与会专家、学者的驻足交流。展会取得圆满成功，辰皓真空以硬核技术与前瞻布局，赢得了行业广泛认可。
本次学术年会以“核聚变与大科学装置领域真空技术创新与产业应用”为核心主题，汇聚了国内顶尖科研机构与企业专家，共同探讨真空技术在核聚变装置、大科学工程、半导体、新能源、高端装备等领域的创新突破与产业融合。在本次学会上，中南大学教授、博导、新锋科技集团董事长魏秋平教授与恒运昌、汇成真空、沃格光电等上市公司董事长一同当选为深圳市真空学会的副理事长。同时，魏秋平教授受邀作了题为《金刚石辐射粒子探测器制备技术及其在核能领域的研究进展》的专题学术报告。报告系统阐述了金刚石辐射探测器对于我国未来发展的战略意义、核心制备技术及其在核能领域的广阔应用前景，引发了与会嘉宾的热烈反响。
论坛期间，南山区委常委、副区长夏雷与深圳大学物理与光电工程学院副院长、中国核能与安全高等研究院执行院长罗景庭教授一同莅临辰皓真空展位参观指导。湖南辰皓真空科技有限公司彭国令博士向夏区长和罗教授就公司的产品、性能、应用领域、市场前景等进行了详细的汇报，夏区长表示：“公司对于真空薄膜技术研究很深，并开发了相关的PVD和CVD真空设备，取得了不错的成绩，欢迎到深圳来！”此外，公司团队也与来自全国各地的行业同仁进行了深入交流，共同探讨薄膜技术的前沿发展与产业化应用方向。
南山区委常委、副区长夏雷在辰皓真空展位参观指导
湖南辰皓真空科技有限公司展位图
金刚石被誉为“终极半导体材料”。相较于硅、碳化硅、氮化镓等半导体材料，金刚石辐射探测器集宽禁带、高辐射硬度、超快响应、环境适应性强于一体，是极端环境下高能量粒子辐射探测衬底材料的理想选择。金刚石具有高达43.3 eV的碳原子位移能，可以承受高达2×1014 n/cm²的中子注量，抗辐照能力远超硅基探测器；其高达22 W/cm·K的热导率与低于10-13 A/cm²量级的极低暗电流，使其在高温、强辐照、强腐蚀等极端条件下仍能长期稳定工作。
在国家战略层面，“十五五”规划建议明确提出布局核聚变等未来产业，国家原子能机构等十二部门联合印发的《核技术应用产业高质量发展三年行动方案（2024-2026年）》也重点强调了突破宽禁带半导体探测器等工程化生产技术的紧迫性。金刚石辐射探测器正是响应这一国家战略需求的关键一环。
金刚石辐射探测器可同时实现对α粒子、β粒子、γ射线、X射线及中子等多种粒子的灵敏探测，在高能物理实验、核聚变反应堆诊断、深空探测及医疗放疗剂量监测等领域均展现出不可替代的应用价值。然而，国内金刚石辐射探测器行业尚处于起步阶段，高端产品几乎全部依赖进口。湖南辰皓真空与中南大学气相沉积技术与薄膜材料研究团队已在金刚石材料多功能化应用等领域深耕30余年，致力于实现高端金刚石辐射粒子探测器衬底材料的国产化替代。
辰皓真空的核心竞争力之一，体现在高端MPCVD（微波等离子体化学气相沉积）装备的自主研发能力上。公司采用COMSOL多物理场模拟仿真软件对电场、等离子体、温度场、气流场等进行仿真，成功开发出倒置蝶形腔等多种类型的MPCVD系统，开发成本较国际同类降低20%以上。值得一提的是，公司成功研发出国际先进的偏压增强型MPCVD设备，可使异质外延单晶形核密度从约106 cm-2提高至1010 cm-2，提升幅度达4个数量级，该设备为异质外延生长单晶金刚石提供了良好的装备支撑。
MPCVD设备的应用场景极为广泛，除了高性能电子级金刚石生长外，还可用于培育钻石、大尺寸光学级金刚石窗口、量子级金刚石、纳米结晶金刚石、碳纳米管/类金刚石碳等的制备，为第四代半导体材料的产业化发展提供了坚实的装备保障。目前国际金刚石晶圆技术发展迅速，辰皓真空正紧随国际前沿，持续优化大尺寸单晶金刚石异质外延生长工艺，力求在这一关键领域实现自主突破。
除MPCVD设备外，辰皓真空已形成覆盖多领域的真空设备产品矩阵，致力于打造真空镀膜设备及配件等全链条服务的集成服务商。
1.卷绕镀膜设备
在卷绕镀膜PVD设备领域，公司的复合集流体磁控溅射卷绕镀膜设备已在多家行业龙头企业成功应用，设备实现了0.5至10 m/min的卷绕速度无级调速，幅宽2.1米以上，基材厚度≥12μm，镀膜厚度≥200nm，收卷平齐度控制在±2 mm以内，镀膜均匀性控制在±5%以内，可广泛应用于柔性基材，如PET、PP、金属箔、泡沫铜、泡沫镍、导电布等卷绕镀膜的制备，适用于电磁屏蔽、柔性透明导电薄膜、氢能、复合集流体等领域。
2.粉体镀膜设备
公司在粉体真空镀膜设备领域同样成果丰硕，滚筒式、振动式、螺旋提料式等设计可满足10至50公斤级各类粉体材料的表面改性需求，可以根据设计镀覆各种金属膜、合金膜、非金属膜、复合多层膜等，广泛应用于新能源、热沉等领域。
3.硬质镀膜设备
公司的硬质镀膜设备采用DLC真空镀膜与多弧离子镀膜技术，沉积速率高、膜层结合力好，广泛应用于铣刀、钻头、切削工具、模具等超硬膜层沉积，以及汽车、民航、医疗、工程机械等领域的DLC超硬润滑耐磨涂层制备。
4.等离子体刻蚀与等离子体抛光设备
在高端半导体制造领域，公司开发的反应离子刻蚀设备和等离子体抛光设备可实现纳米级抛光精度，最大支持6英寸及以上尺寸衬底的高精度抛光，已应用于多家民营及军工企业。
辰皓真空将以此次学术年会为契机，以“一代应用、一代材料、一代装备、一代工艺”为核心理念，不断推动高端真空装备与前沿材料技术的协同创新。公司将继续秉承“精益求精，创新驱动，协同共进，价值创造”的核心价值观，致力于成为全球真空镀膜技术创新的引领者，助力我国高端制造与核能探测领域实现从“追赶”到“引领”的战略跨越，以卓越的真空设备解决方案，赋能客户成功，推动先进制造升级。
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